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薄膜工学<第3版>

編者: 日本学術振興会薄膜第131委員会   監修: 金原粲  
書籍 
出版社:丸善出版
発売日: 2016年11月
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  • 価格(税込):4,180円
  • Vポイント:19pt
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この商品の説明

薄膜技術は基礎的な技術でありながら、関連する応用分野は広く、とくに今日のナノテクノロジーは微細加工・微細構造作製技術と組み合わされた薄膜技術なしには成り立たない。本書では基本を重視する従来の編集方針はそのままに、近年ますます広がりをみせる薄膜技術に対応すべく、大幅な改訂を行った。薄膜分野に携わる研究者、技術者にとって、基本技術の解説書として最適な一冊である。

著者/アーティスト

編者: 日本学術振興会薄膜第131委員会監修: 金原粲編者: 吉田貞史編者: 近藤高志

目次

1 薄膜工学の基礎(薄膜の歴史;薄膜と工学 ほか);2 薄膜作製法(真空蒸着法・MBE法;スパッタリング ほか);3 薄膜評価法(膜厚・形状評価;結晶構造評価 ほか);4 薄膜の機能と応用(半導体薄膜(シリコン系);半導体薄膜(化合物) ほか)

商品仕様

  • アイテム名:書籍
  • ページ数:302p
  • 大きさ:21cm(A5)
  • 出版社:丸善出版
  • ISBN-10:4621300989
  • ISBN-13:9784621300985

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