この商品の説明
著者/アーティスト
編者: 西澤潤一
目次
1章 サブ0.1μm CMOS‐LSIのデバイス・回路技術;2章 SIMOX技術を用いた高性能・低消費電力LSI;3章 強誘電体不揮発メモリのプロセスデバイス技術;4章 トンネルゲート酸化膜MOSFET技術;5章 SiO2ホール内でのエッチング表面反応;6章 コンピュータと実験を最適に動員するCVDモデリング;7章 酸化マンガン研磨剤を用いたCMP技術;8章 ULSIデバイスにおける埋め込み多層配線技術;9章 Al系配線の高信頼化技術
商品仕様
- アイテム名:書籍
- ページ数:404p
- 大きさ:26cm(B5)
- 出版社:工業調査会
- ISBN-10:476931163X
- ISBN-13:9784769311638
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