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新しいレジスト材料とナノテクノロジー

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エレクトロニクス材料・技術シリーズ
書籍
山岡亜夫
シーエムシー出版
2007年9月発売 / 在庫なし
71,500円
Vポイント：325pt

ナノテクノロジーとレジスト材料＜普及版＞

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CMCテクニカルライブラリー
書籍
山岡亞夫 / 山岡亞夫
シーエムシー出版
2007年4月発売 / 在庫なし
3,960円
Vポイント：18pt

高分子工業化学

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応用化学シリーズ
書籍
山岡亜夫 / 山岡亜夫
朝倉書店
2003年12月発売 / 在庫なし
3,080円
Vポイント：14pt

フォトポリマーの基礎と応用

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CMCテクニカルライブラリー
書籍
山岡亜夫 / 山岡亜夫
シーエムシー出版
2003年3月発売 / 在庫なし
4,730円
Vポイント：21pt

画像工学概論(2)

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画像工学シリーズ
書籍
画像工学シリーズ編集委員会 / 小門宏
丸善出版
1999年10月発売 / 在庫なし
3,300円
Vポイント：15pt

情報記録

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新産業化学シリーズ
書籍
日本化学会 / 小門宏
大日本図書
1998年12月発売 / 在庫なし
3,960円
Vポイント：18pt

実用高分子レジスト材料の新展開

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書籍
山岡亜夫 / 山岡亜夫
シーエムシー出版
1997年1月発売 / 在庫なし
73,645円
Vポイント：334pt

半導体集積回路用レジスト材料ハンドブック

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書籍
山岡亜夫
リアライズアドバンステクノロジ
1996年7月発売 / 在庫なし
36,300円
Vポイント：165pt

感光性樹脂

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高分子新素材one　point
書籍
山岡亜夫 / 森田浩
共立出版
1988年5月発売 / 在庫なし
1,430円
Vポイント：6pt

フォトポリマー・テクノロジー

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書籍
山岡亜夫 / 永松元太郎
日刊工業新聞社
1900年1月発売 / 在庫なし
11,000円
Vポイント：50pt
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